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數(shù)據(jù)中心服務(wù)器電源 GaN vs Si效率對比測試報告

作者:氮化鎵代理商   發(fā)布時間:2025-07-16 15:27:47   點擊量:

在數(shù)據(jù)中心日益增長的能源消耗背景下,提升服務(wù)器電源的效率成為關(guān)鍵。氮化鎵(GaN)和硅(Si)作為兩種主流的半導(dǎo)體材料,在服務(wù)器電源領(lǐng)域展現(xiàn)出不同的性能特點。

數(shù)據(jù)中心服務(wù)器電源 GaN.jpg

 

GaN材料因其寬帶隙、高電子遷移率等特性,在高頻工作時能顯著降低開關(guān)損耗,從而提高整體轉(zhuǎn)換效率。這使得GaN器件在實現(xiàn)更高功率密度和更小體積方面具有優(yōu)勢,有助于數(shù)據(jù)中心在有限空間內(nèi)部署更多服務(wù)器,并降低運營成本。此外,GaN器件在高溫環(huán)境下表現(xiàn)出更好的穩(wěn)定性,能確保服務(wù)器在持續(xù)運行中可靠工作。

 

然而,SiC(碳化硅)在某些方面也展現(xiàn)出優(yōu)于GaN的潛力,尤其是在高溫下的導(dǎo)通損耗控制和整體穩(wěn)定性方面。SiC器件在全負載運行時通常能提供更高的效率,并且在封裝和驅(qū)動復(fù)雜性方面也可能更具優(yōu)勢。

 

盡管GaN在某些應(yīng)用場景下效率更高,但SiC器件在高溫下的導(dǎo)通損耗控制和整體穩(wěn)定性方面表現(xiàn)更佳,特別是在數(shù)據(jù)中心等需要長時間滿負荷運行的場景下。同時,SiC器件在封裝標(biāo)準(zhǔn)化方面也更成熟,易于與現(xiàn)有硅基技術(shù)兼容。

 

GaN和SiC都在推動服務(wù)器電源技術(shù)的進步,各自在不同方面具有優(yōu)勢。未來,隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成本的降低,這兩種材料將在數(shù)據(jù)中心電源領(lǐng)域扮演越來越重要的角色,以滿足日益增長的算力需求和能源效率挑戰(zhàn)。


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